2022-116
雙光子顯微鏡的基本原理是：在高光子密度的情況下，熒光分子可以同時(shí)吸收2個(gè)長(zhǎng)波長(zhǎng)的光子，在經(jīng)過(guò)一個(gè)很短的所謂激發(fā)態(tài)壽命的時(shí)間后，發(fā)射出一個(gè)波長(zhǎng)較短的光子；其效果和使用一個(gè)波長(zhǎng)為長(zhǎng)波長(zhǎng)一半的光子去激發(fā)熒光分子是相同的。雙光子激發(fā)需要很高的光子密度，為了不損傷細(xì)胞，雙光子顯微鏡使用高能量鎖模脈沖激光器。這種激光器發(fā)出的激光具有很高的峰值能量和很低的平均能量，其脈沖寬度只有100飛秒，而其周期可以達(dá)到80至100兆赫茲。在使用高數(shù)值孔徑的物鏡將脈沖激光的光子聚焦時(shí)，物鏡的焦點(diǎn)處的光子...
查看更多2022-1022
無(wú)掩膜光刻是一種怎么樣的技術(shù)呢？請(qǐng)看這里光刻工藝是制造流程中最關(guān)鍵的一步，光刻確定了芯片的關(guān)鍵尺寸，在整個(gè)芯片的制造過(guò)程中約占據(jù)了整體制造成本的35%。一般來(lái)說(shuō)，一個(gè)芯片生產(chǎn)線，所需要的大致設(shè)備、材料都是類似的，只是隨著芯片制程工藝的不斷提升，所需要的設(shè)備精密度越高，而材料純度也是越高，這些都會(huì)導(dǎo)致生產(chǎn)成本的不斷提升，不過(guò)，上升最快的則是光刻掩膜版所帶來(lái)的成本。掩膜版又稱光罩、光掩膜等，是微電子制造過(guò)程中的圖形轉(zhuǎn)移工具或母版，其功能類似于傳統(tǒng)照相機(jī)的“底片”，根據(jù)客戶所需要的...
查看更多2022-922
納米機(jī)器人因其適用醫(yī)學(xué)工程和環(huán)境修復(fù)而引起了人們的極大興趣。特別是，隨著各種具有定位和跟蹤的臨床影響技術(shù)的發(fā)展，微納機(jī)器人在體內(nèi)診斷和介入中的應(yīng)用已成為近年來(lái)廣泛研究的焦點(diǎn)問(wèn)題。成功集成的表面功能化、遠(yuǎn)程驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)和顯影技術(shù)的巧妙微納機(jī)器人設(shè)計(jì)是邁向生物醫(yī)學(xué)應(yīng)用（尤其是體內(nèi)應(yīng)用）的關(guān)鍵一步。因此，本綜述針對(duì)生物醫(yī)學(xué)微型機(jī)器人的四個(gè)不同方面：設(shè)計(jì)/制造、功能化、驅(qū)動(dòng)和定位。本文總結(jié)了微型機(jī)器人在醫(yī)療診斷、傳感、顯微外科、靶向藥物/細(xì)胞運(yùn)輸、血栓消融和傷口愈合的應(yīng)用。同時(shí)對(duì)已開(kāi)發(fā)的...
查看更多2022-827
隨著微納技術(shù)的發(fā)展，我們會(huì)看到很多非常有意思的一些結(jié)構(gòu)（如抗反射、抗菌結(jié)構(gòu)、菲尼爾透鏡，納米光柵結(jié)構(gòu)等），在我們的實(shí)際生活中得到廣泛的應(yīng)用，同時(shí)也為我們的生活帶來(lái)了很多變化如，裸眼3D、AR/VR技術(shù)等。微透鏡結(jié)構(gòu)可以應(yīng)用在防偽膜中的動(dòng)感膜、顯示中的裸眼3D、Micro-LED等。今天我們就泛泛的探討一下微透鏡陣列的加工技術(shù)解析。微透鏡加工方法：機(jī)械加工法這是一種比較早期的微透鏡加工方法，其優(yōu)點(diǎn)是簡(jiǎn)單易行，利用高精度CNC工具可以挖出對(duì)應(yīng)的微透鏡結(jié)構(gòu)，或者利用更為精密的單點(diǎn)金...
查看更多2022-821
飛秒激光加工進(jìn)入人們的視野，并廣泛應(yīng)用于航空、航天和醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域。飛秒激光是脈寬為幾飛秒至幾百飛秒的脈沖激光。當(dāng)飛秒激光作用于材料時(shí)，會(huì)發(fā)生復(fù)雜的能量傳遞及擴(kuò)散現(xiàn)象，如電子-電子馳豫及電子-晶格馳豫等過(guò)程，電子-電子馳豫及電子-晶格馳豫的時(shí)間大于飛秒激光的脈沖寬度，因此晶格在脈沖作用的時(shí)間內(nèi)基本保持原來(lái)的溫度，不發(fā)生明顯的升溫，此過(guò)程稱為飛秒激光“冷加工”。相較于長(zhǎng)脈沖的激光，飛秒激光作用于固體材料時(shí)熱量擴(kuò)散很小、可控性好，因此被廣泛地應(yīng)用于生物醫(yī)療，光電信息，材料表面結(jié)構(gòu)等多...
查看更多2022-84
微納3D打印是快速成形技術(shù)的一種，它運(yùn)用粉末狀金屬或塑料等可粘合材料，通過(guò)一層又一層的多層打印方式，來(lái)構(gòu)造零物件。模具制造、工業(yè)設(shè)計(jì)常將此技術(shù)用于建造模型，現(xiàn)在正向產(chǎn)品制造的方向發(fā)展，形成“直接數(shù)字化制造”。在一些高價(jià)值應(yīng)用中(比如髖關(guān)節(jié)或牙齒，或一些飛機(jī)零部件)也已經(jīng)有打印而成的零部件出現(xiàn)。簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，微納3D打印就是在普通的二維打印的基礎(chǔ)上再加一維。打印機(jī)先像普通打印一樣在一個(gè)平面上將塑料、金屬等粉末狀材料打印出一層，然后在將這些可黏合的打印層一層一層的粘起來(lái)。通過(guò)每一層不...
查看更多2022-725
隨著工藝制程的逐漸提升，EUV以及高NAEUV光刻機(jī)的出現(xiàn)，對(duì)于掩膜帶來(lái)了新的挑戰(zhàn)。掩模缺陷的影響將越來(lái)越大，這表明掩模設(shè)計(jì)規(guī)則需要變得更加嚴(yán)格。因此，為了實(shí)現(xiàn)更加靈活的光刻過(guò)程，業(yè)界開(kāi)始研究用其他的東西取代物理掩膜，甚至干脆不使用掩膜進(jìn)行加工，這樣的方法稱為“無(wú)掩膜光刻”。直寫光刻也稱無(wú)掩膜光刻，是指計(jì)算機(jī)控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上，無(wú)需掩膜直接進(jìn)行掃描曝光。直寫光刻根據(jù)輻射源的不同大致可進(jìn)一步分為兩大主要類型：一種是基于帶電粒子的直寫光刻（CPM...
查看更多2022-721
三維激光直寫系統(tǒng)利用偏振態(tài)可調(diào)的激光光束對(duì)基底表面的雙折射材料實(shí)施曝光。通過(guò)控制曝光光斑尺寸及光束偏振方向改變基底上液晶分子排布，曝光后顯影便可以在基底表面形成對(duì)應(yīng)的微納結(jié)構(gòu)圖案。三維激光直寫作光刻版的工藝流程和要求：1.制作光刻版的工藝流程：a、繪制版圖文件；b、轉(zhuǎn)圖，生成設(shè)備可曝光的文件格式，曝光圖形；c、顯影，露出鉻層；d、蝕刻，使用Cr蝕刻液濕法腐蝕；e、使用濕法去除光刻掩膜版上的光刻膠層，并清洗甩干。2.制版工藝流程要求：a、版圖繪制：可接受文件格式（后綴名）：CI...
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